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大题 02 化学工艺流程题（二）1．高纯砷(As)常用于制造砷化镓、砷化锗等半导体材料。工业上用含砷废料(主要成分为，含少量)为原料制取高纯砷的工艺流程(硫化—还原法)如下图所示：已知：砷酸(H3AsO4)在酸性条件下有强氧化性，能被、氢碘酸等还原为亚砷酸(H3AsO3)，H3AsO3在加热蒸发过程中会失水生成。时的值为。回答下列问题：（1）半导体材料中元素的化合价为_________________，“氧化(加压)”时发生反应的化学方程式为_________________________。（2）用溶液调溶液的时，的最小值为___________(当溶液中某离子浓度为时，可认为该离子沉淀完全)。（3）“还原”过程发生反应的离子方程式为___________________。（4）过程中，检验还原砷酸后所得溶液中是否仍存在砷酸。
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